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應用專業的超純水設備即可產出高品質的超純水，如今半導體行業常用的超純水設備核心工藝為反滲透工藝、EDI系統、混床工藝，這樣生產出的超純水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨...
超純水設備可以連續穩定運行，生產的超純水水質好、純度高、水量大。它搭配了PLC智能化程序，操作非常靈活，有效節約了人力投入成本。...
超純水設備采用了獨有的靶向離子交換系統，能夠針對超純水中難處理的硼及其他離子實行定向去除，有力保證了出水硼離子能夠穩定≤2ppt。...
應用光伏超純水設備制備超純水工藝，則結合了膜技術，采用反滲透、EDI裝置和拋光混床模塊化設計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優勢。...
太陽能電池產業應用的超純水設備，采用的工藝為“雙級反滲透系統+EDI模塊+拋光混床”，經過該工藝產出的超純水的電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)以上，是完全符合太陽能電池生產用水要求的。...
超純水設備在保證出水達標的同時，還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節，為半導體生產提供了高品質的超純水。...
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